Oberflächenanalysen

Lichtmikroskopisch

Gebräuchliche Methode zur Durchführung von Oberflächenanalysen. Diese Untersuchungsmethode dient der Darstellung, Charakterisierung und Strukturuntersuchung verschiedenster Schichtsysteme im Querschliff, so dass Oberflächenfehler und Beschichtungsfehler erkannt und dargestellt werden können. Durch Ätzen lässt sich vielfach der Kontrast verstärken und eine bessere Darstellung erzielen.

Lichtmikroskopische Schichtdickenmessungen (DIN EN ISO 1463) dienen oftmals als Schiedsverfahren für andere Schichtdickenmessverfahren.

Eingebettete Proben für lichtmikroskopische Untersuchung — Schliffe – eingebettete Proben für lichtmikroskopische Untersuchung

Lichtmikroskopische Aufnahme eines Fehlers im Querschliff, Ursache ist ein Einschluss in der Kupferschicht unter der Nickelbeschichtung.

Rasterelektronenmikroskopisch

Darstellung von Oberflächen mit höheren Vergrößerungen im Vergleich zum Lichtmikroskop. Darstellung der Oberflächenstruktur mit großer Schärfentiefe.

Dies ist beispielsweise von Interesse bei

profilierten Teilen
Haftfestigkeitsproblemen beschichteter Teile
Bruchflächenanalysen.

Über die EDX-Analyseeinheit können qualitative und halbquantitative Aussagen über die elementare Zusammensetzung der Probe (Fläche) und mikroskopisch kleinen Partikeln bestimmt werden. Mit einer EDX-Analyse werden Elemente ab einer Ordnungszahl von 6 (Kohlenstoff), nachgewiesen. Elemente wie z.B. Wasserstoff bleiben dabei unberücksichtigt. Das bedeutet, dass organische Stoffe bedingt erfasst werden. Die Nachweisgrenze hängt stark vom Atomgewicht des untersuchten Elements ab und liegt für die überwiegenden Elemente zwischen 0,1 und 0,5 Gewichtsprozent.

Gerät: Rasterelektronenmikroskop mit EDX-Analyseeinheit

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